KLA

"。米国勢は、前工程で培った成膜のApplied Materials、検査・計測のKLAというように、上流の強みを後工程パネルへ展開する。台湾が後工程装置を地場で揃える狙いは、TSMCと密接に即応・共同調整できること、そして日本・米国への依存"

"を検査するウエハー検査装置や、チップの良否を判定するテスターといった分野では、米KLAや日本のレーザーテック、アドバンテストといった企業が高い市場占有率を維持しており、中国勢の技術は大きく立ち遅れている。JEITA（電子情報技術産業協会）が"

"していないとされる。また、半導体製造の品質を左右する検査・測定装置の分野でも、米KLAや日本のレーザーテック、アドバンテストなどが世界市場を寡占しており、代替はほぼ不可能だ。中国半導体行業協会(CSIA)の非公開資料によると、2023年時点"

"ことと比較すると、技術的に3〜4世代の遅れを意味する。検査・測定装置分野でも、米KLAや日本のレーザーテックが世界市場を寡占するマスク欠陥検査装置などで決定的な差があり、歩留まり向上の大きな足かせとなっている。TrendForceが2025"

"的孤立を深めている。先端半導体の製造は、米アプライドマテリアルズ、ラムリサーチ、KLAといった企業の装置なくしては成立しない。例えば、回路パターンをウエハーに転写するリソグラフィー工程の後には、KLAの検査装置でナノメートル単位の欠陥を検出"

"だけでなく、米国のApplied MaterialsやLam Research、KLAなどが供給する成膜、エッチング、検査装置の最先端モデルの対中輸出が事実上停止した。規制は物品にとどまらず、「米国人（米国市民や永住権保持者）」が中国の先端"

"m級DUV露光装置に留まる。また、回路の欠陥を検出するウエハー検査装置では米国のKLA、電子ビームマスク描画装置ではアプライドマテリアルズや日本の日本電子（JEOL）が高い技術障壁を築いており、代替が利かない。中国税関総署が発表した2025"

"網全体を自給するのは不可能に近い。特に、ウエハーの欠陥を検査する装置市場では、米KLAや日本のレーザーテックが高いシェアを維持しており、代替技術は存在しない。 ## 規制の網を抜ける「日本の技術」への依存 中国が直面するもう一つの現実は、"