EUVとは
読み: いーゆーぶい Extreme Ultraviolet 半導体の用語
EUVとは、波長13.5nmの極端紫外線露光。従来光で必要だった多重露光 (コスト爆発) を1回で置き換えるため、7nm以下の量産で事実上必須になった。
3段で深く知る — 基礎・高級・投資家視点
1行の定義から、体系解説の該当箇所へそのまま降りられる。抜粋は体系解説でこの語が出てくる箇所から引いた。続きはリンク先にある。
第II部 作る ③ プロセス開発・製造技術
…EUV は波長を14分の1に縮めた。1回の露光で7ナノ相当の線を描けるのはこのためである。 nm DUV (波長193ナノ・液浸) — 選ばれ続ける理由 ArF エキシマレーザー、波長 193nm 光路に純水 (n=1.44) → NA 1.0 超を実現 4回に分けて露光する方法 (SAQP) で7ナノ相当も描けるが、回数が増えるほど歩留まりが落ちる SMIC の 7nm はこれで量産 (歩留まり 30-50%) 自国での生産: SMEE が 90nm 量産、28nm 検証中 EUV (波長13.5ナノ) — 1社しか作れない理由 光源: スズの液滴に毎秒5万回、50キロワットの炭酸ガスレーザーを当ててプラズマにする。光に変わるのは5% 光学系: どの物質にも吸収されるためレンズが使えない。モリブデンとシリコンを40層重ねた鏡で反射率70% 真空: 空気中で減衰するため、光の通り道をすべ…
第V部 産業と勢力図 ⑨ 主要企業の比較 — 工程ごとに誰が立っているか
…9.1 受託製造 (ファウンドリー) の比較 9.2 メモリー各社の比較 9.3 装置と材料 — 日本の持ち分が最も厚い層 JSRのEUV用感光材は、日本の持ち分が最も厚い場所である。世界のEUVの工程はこの材料を通る。 官民ファンドがJSRを9,000億円で買い取り上場廃止としたのは (2023年)、この位置づけによる。 ディスコは後工程で円板を切り分ける装置で世界の8割を占め、置き換えられる装置が他にない。 信越化学 + SUMCO でシリコンウエハ世界 60% を寡占。 9.4 設計専業 (ファブレス) の比較 9.5 先端の世代が7ナノで止まる理由 — 4つそろわないと進めない 先端の世代は設計まではできても、製造の段で止まる。理由は輸出規制だけではない。 露光装置・感光材・設計ソフト・量産の作り込みの4つがそろって初めて動く構造で、どれか1つを自前で用意しても、残りが欠ければ歩…
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