経営陣・組織
- CEO
- 王淑敏 (Shumin Wang、董事長)
- 創業者
- 王淑敏 (Shumin Wang)
🌱 EMERGING
capability
45
/ 100
🧪 材料
⚡ 先端ノード (≤14nm)
🇯🇵 🟢 日本企業との連携あり (装置・材料調達 + 共同開発)
🛰️ 通信・DC
📱 民生用
🏭 産業用
🚗 車載
半導体企業
🧪 材料
Anji (安集科技)
安集微电子科技 (上海) 股份有限公司 / Anji Microelectronics
🗓 事実の最終確認: 関連記事の更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)
主力製品・モデル
CMP スラリー (世界 5+ 種類、SMIC/TSMC/YMTC 主力)、Funct…
評価額・時価総額
時価総額 約150億元
上場
非上場
| 企業 | 主力製品・モデル | 評価額・時価総額 | 最新発表 / 確認日 |
|---|---|---|---|
| Zing Semi (滬硅産業) | 12 インチ研磨/エピ ウェハ (SMIC + CXMT … | 時価総額 約500億元 | 2026-07-16 |
| 日東紡績 | 低誘電ガラスクロス (Tガラス・Lガラス・Qガラス級)・ガ… | — | 2026-08-27 |
| 三井金属 | キャリア付極薄銅箔 (MicroThin)・高周波基板用電… | — | 2026-10-13 |
| 三菱ガス化学 | 半導体パッケージ用BT材料・AIサーバー向け基板材料OPE… | — | 2026-10-13 |
安集微電子科技(上海)(Anji Microelectronics)は2004年に王淑敏(米ライス大学材料化学博士)が上海で創業したCMP(化学機械研磨)スラリーの中国国産化最大手。銅・タングステン・誘電体用など各種スラリーと機能性ウェット電子化学品を自社開発し、研磨スラリーの世界シェアを2022年7%→2024年11%へ引き上げた。科創板上場(688019)。
Postation の入口
📦 製品・商品 (6)
📦 CMPスラリー各種 製品
銅/銅バリア/タングステン/誘電体/酸化セリウム系
📦 機能性ウェット電子化学品 製品
CMPスラリー(銅/銅バリア/タングステン/誘電体/酸化セリウム系)、機能性ウェット電子化学品、ダマシン電気めっき液・添加剤。2025年通期売上25.0億元(前年比+36.5%)・控除後純利益7.0億元(+32.4%)、CMPスラリー20.4億元(+32.1%)・ウェット化学品4.5億元(+63.7%)。
📦 ダマシン電気めっき液・添加剤 製品
CMPスラリー(銅/銅バリア/タングステン/誘電体/酸化セリウム系)、機能性ウェット電子化学品、ダマシン電気めっき液・添加剤。2025年通期売上25.0億元(前年比+36.5%)・控除後純利益7.0億元(+32.4%)、CMPスラリー20.4億元(+32.1%)・ウェット化学品4.5億元(+63.7%)。
📦 ECP 電解めっき添加剤 製品
Cu interconnect + Co interconnect、Hua Hong + SMIC 採用
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係
日本装置・材料の主要顧客 (Tokyo Electron / SUMCO / Nikon / 信越化学 等から調達)
🔬 プロセス開発・製造技術 (Fab + Hardware)
⚙️ Hardware 開発
ナノ粒子制御
🧪 設計・材料・EDA ツール
📐 Software 開発
化学配合設計
⚙ システム基盤
上海張江本社 + 上海主力工場 (CMP スラリー + WET ケミカル + ECP 添加剤年産能力 30,000 ton +) + 寧波工場 + 韓国 (主要顧客 Samsung/SK Hynix 近接) 拠点。
📋 詳細情報
技術・事業
- 技術概要
- 中核はCMP(化学機械研磨)スラリー=半導体研磨材料の国産化最大手。銅・銅バリア層用・タングステン用・誘電体(酸化膜)用・酸化セリウム系用など各種スラリーを自社開発、加えて機能性ウェット電子化学品(超純度化学薬品)・ダマシン電気めっき液・添加剤を量産化。研磨スラリーの世界シェアが2022年7%→2024年11%へ上昇。米制裁対象ではない。従業員785人。
- コア技術
- CMPスラリー(銅/銅バリア/タングステン/誘電体/酸化セリウム系)、機能性ウェット電子化学品、ダマシン電気めっき液・添加剤。2025年通期売上25.0億元(前年比+36.5%)・控除後純利益7.0億元(+32.4%)、CMPスラリー20.4億元(+32.1%)・ウェット化学品4.5億元(+63.7%)。
業界別スペック
- 主要製品
- CMPスラリー各種(銅/銅バリア/タングステン/誘電体/酸化セリウム系)、機能性ウェット電子化学品、ダマシン電気めっき液・添加剤。用途は先端ロジック・メモリ(DRAM/NAND)・パワー半導体の平坦化(CMP)・洗浄・めっき工程
⭐ 強み・特徴
📝 現状分析
中国 CMP (Chemical Mechanical Polishing) スラリー国産化 No.1 + WET ケミカル + ECP 電解めっき、SSE STAR 上場 (688019、2019-07、STAR market 第一弾 25 社の 1 つ)。2025 9M 売上 18.12 億元 (+38.09% YoY)、純利益 6.08 億元 (+54.96%)、H1 売上 11.41 億元 (+43.17%、純利益 3.76 億元 +60.53%)、SMIC + TSMC + YMTC + Hua Hong + Naura + CXMT 主要顧客で中国半導体製造材料の国産化最重要企業、Cabot Microelectronics (米国) + Resonac (日本) + 信越化学との直接競合。Wang Shumin (王淑敏) CEO の 元 Cabot Microelectronics シニアエンジニア 経験、米中対立で国産化加速で恩恵最大。
🔮 今後の展望
📊 詳細ビジネスデータ
🛍️ 商品詳細
⚙️ アルゴリズム・メカニズム
🏗️ システム基盤構成
上海張江本社 + 上海主力工場 (CMP スラリー + WET ケミカル + ECP 添加剤年産能力 30,000 ton +) + 寧波工場 + 韓国 (主要顧客 Samsung/SK Hynix 近接) 拠点。
💰 売上の見込み
短期 (1 年): 2026 売上 25 億元 (+38%)、純利益 9 億元 +。中期 (3 年): 2028 売上 50 億元目標、Cabot 中国シェアを完全代替。業界成長率: 世界 CMP 市場 CAGR 8% (TECHCET)、中国 CMP は CAGR 25%+ (国産化加速)。
💸 売上の出どころ
👤 経営者履歴
CEO — 王淑敏 (Shumin Wang、董事長)
王淑敏 (Wang Shumin、CEO、創業者、博士) — 米国出身の中国 CMP 業界第一人者、元 Cabot Microelectronics (米国 CMP スラリー世界 No.1) シニアエンジニア、2006 上海で Anji 創業 (在任 19 年)、Forbes 中国半導体女性起業家。
🇯🇵 日本企業との取引・関係
上場・財務
- 本社
- 中国・上海市
- 創業
- 2004
- 従業員
- 約500人
- 上場ステータス
- 未上場
信用・米制裁
- 銀行信用
- 健全
- 🇺🇸 米制裁
- なし
海外進出
- 資金流出
- なし
📚 信頼性メタデータ
- 信頼度
- 🅰 一次情報
- 最終確認
- 2026-07-16 05:03:22
- 検証者
- claude+web-verified
出典 URL
- https://finance.sina.cn/2026-04-30/detail-inhwfayr0632649.d.html
- https://finance.sina.com.cn/roll/2026-05-16/doc-inhxzrez4862064.shtml
最新動向
2025年通期は売上25.0億元(+36.5%)・利益7.0億元(+32.4%)と高成長を継続。CMPスラリーが主営の約81%を占めつつ、機能性ウェット電子化学品が+63.7%と第2の柱に育つ『双輪駆動』体制を構築した。窒化ケイ素スラリーや国産研磨粒子採用製品、ダマシンめっき液の量産化で製品ポートフォリオを高付加価値・垂直国産化方向へ拡大中で、2026年5月に取締役会改選を実施。日本投資家視点では、CMPスラリーはフジミインコーポレーテッド(5384)や富士フイルム、米キャボット/デュポン、韓国系が競合する市場で安集の世界シェア上昇(7→11%)はこれら既存プレーヤーの中国市場シェアを侵食し得る=特にフジミ(5384)はCMPスラリー専業に近く中国半導体国産化に伴う安集の攻勢は同社の中国売上を読む上で注視対象(安集とフジミ等の直接的なシェア奪取・個別取引の実証は未確認)。
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