経営陣・組織
- CEO
- 趙晋栄 (Zhao Jinrong、董事長)
🌱 EMERGING
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54
/ 100
⚙️ 製造装置
🇯🇵 🟢 日本企業との連携あり (装置・材料調達 + 共同開発)
🛰️ 通信・DC
📱 民生用
🏭 産業用
半導体企業
⚙️ 製造装置
NAURA (北方華創)
北方华创科技集团股份有限公司 (Naura Technology Group) / NAURA Technology
🗓 事実の最終確認: 関連記事の更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)
主力製品・モデル
エッチング装置: ENTRON (シリコン)、EXCEL (誘電体)、ALPHA (H…
評価額・時価総額
時価総額 約1500億元
上場
SZSE 002371.SZ
| 企業 | 主力製品・モデル | 評価額・時価総額 | 最新発表 / 確認日 |
|---|---|---|---|
| SMEE (上海微電子) | SSA600/20 (90nm DUV、量産)、SSB50… | 非上場 | 2026-08-06 |
| ASML | 極端紫外線 (EUV) 露光装置 | — | 2026-08-20 |
| AMEC (中微半導体) | Primo D-RIE (誘電体エッチング)、Primo … | 時価総額 約900億元 | 2026-07-16 |
| Piotech (拓荊科技) | PECVD 装置 (NMC シリーズ、誘電体堆積、Appl… | 時価総額 約400億元 | 2026-07-16 |
Postation の入口
📦 製品・商品 (6)
📦 エッチング装置 製品
📦 PVD 製品
エッチング(ドライ)・PVD・CVD・酸化拡散(熱処理)・洗浄・ALDをワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカー。事業構成は電子工艺装備93.34%・電子部品6.55%。
📦 CVD/ALD成膜装置 製品
📦 酸化拡散炉 製品
エッチング・PVD・CVD/ALD成膜・酸化拡散炉・洗浄装置・MFC等。2025年通期売上393.53億元(前年比+31.89%)・純利益55.22億元(-1.76%)・粗利率40.10%。
📦 洗浄装置 製品
エッチング・PVD・CVD/ALD成膜・酸化拡散炉・洗浄装置・MFC等。2025年通期売上393.53億元(前年比+31.89%)・純利益55.22億元(-1.76%)・粗利率40.10%。
🧪 技術・サービス (1)
🧪 プラットフォーム型装置群 技術
エッチング (ドライ)・PVD・CVD/ALD成膜・酸化拡散炉・洗浄装置・MFC等をワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカー。世界装置ランキングで2024年第6位→2025年第5位級へ上昇。
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係
Tokyo Electron との競合・部分技術提携
⚙️ 装置メーカー
🔬 プロセス開発・製造技術 (Fab + Hardware)
⚙️ Hardware 開発
チャンバー設計, プラズマ源
🧪 設計・材料・EDA ツール
📐 Software 開発
装置制御SW
📋 詳細情報
技術・事業
- 技術概要
- エッチング(ドライ)・PVD・CVD・酸化拡散(熱処理)・洗浄・ALDをワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカー。事業構成は電子工艺装備93.34%・電子部品6.55%。世界装置ランキングで2024年第6位→2025年第5位級へ上昇しASML/AMAT/Lam/東京エレクトロンの上位4強に接近。2024年12月に米BISのEntity List追加で先端装置・部材調達に制約。
- コア技術
- エッチング・PVD・CVD/ALD成膜・酸化拡散炉・洗浄装置・MFC等。2025年通期売上393.53億元(前年比+31.89%)・純利益55.22億元(-1.76%)・粗利率40.10%。R&D人員6,511人(約42%増員)。総裁は2026年5月に董博宇へ交代。
業界別スペック
- 主要製品
- エッチング装置、PVD、CVD/ALD成膜装置、酸化拡散炉、洗浄装置、MFC等電子部品。主要顧客はSMIC・YMTC・CXMT等の中国主要ファブと推定(具体的取引比率は開示限定)
⭐ 強み・特徴
🔮 今後の展望
2026-2027: SMIC/CXMT の 14nm/7nm 拡張で売上 +30% 加速。米国 2024-12 Entity List 追加で先端 IP 取得困難だが、SMIC 28nm 国内需要で安定。日本投資家含意: Tokyo Electron (8035) の中国売上 22% のうち 15% は Naura との直接競合領域、TEL 中国シェア -3-5% 圧縮リスク。
上場・財務
- 本社
- 中国・北京市経済技術開発区
- 創業
- 2001
- 従業員
- 約13,000人
- 上場
- SZSE
- 銘柄コード
- 002371.SZ
- 上場ステータス
- 上場済
- 時価総額
- 30.00 億 RMB
信用・米制裁
- 銀行信用
- 健全
- 制裁適用日
- 2024-12-02
海外進出
- 資金流出
- なし
📚 信頼性メタデータ
- 信頼度
- 🅰 一次情報
- 最終確認
- 2026-07-16 05:03:22
- 検証者
- claude+web-verified
出典 URL
- https://finance.sina.com.cn/stock/aiassist/yjbg/2026-04-17/doc-inhuvrew3036909.shtml
- https://en.wikipedia.org/wiki/Naura_Technology
- https://technode.com/2024/12/03/us-adds-140-chinese-semiconductor-firms-to-entity-list-targeting-key-equipment-makers/
最新動向
2025年通期は売上393.53億元(+31.89%)と31%超の高成長を維持し世界装置メーカー第5位級へ浮上。一方で純利益は55.22億元と前年比わずかに減少し『増収減益』に転じ、粗利率も40.1%へ2.75pt低下=中国国産勢どうしの価格競争と研究開発・原価負担が利益を圧迫。R&D人員を6,511人へ約42%増員しエッチング・成膜のプラットフォーム拡充を継続、2024年12月にEntity List追加で先端装置・部材調達に制約が続く。日本投資家視点では、東京エレクトロン(8035)・SCREEN(7735)にとって中国は依然売上の約3割を占める最大市場で足元は商機だが、NAURAのエッチング/成膜国産化進展は中長期の競合圧力=新設ファブへの国産装置比率義務化(報道で約50%)が進めば日本勢のシェア侵食リスク(具体的な代替実績は未確認)。
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「置面ではウェハー接合のEV Groupとダイ接合のBesiが輸出管理の対象外で、北方華創は2026年3月にハイブリッド接合装置を発表した。YMTCはNANDで既にハイブリッド接合を使う。TSVを使わない積層手法の特許もファーウェイは公開して」
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3D NAND配線がタングステンからモリブデンへ、JX金属量産
「NAURAが候補に並ぶ。 米証券取引委員会 (SEC)」
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2026-05-20
2025年の売上高でキオクシアに迫る長江存儲(YMTC)グループ、米禁輸下も投資拡大
「が残ると見られる。しかし、中国の国産装置メーカー、例えば北方華創科学技術集団 (NAURA Technology Group) などが政府の支援を受けて急速に技術力を高めており、将来的には深刻な競合相手となる可能性が指摘される。同社の中国向」
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2026-03-04
中国半導体、SMIC7nmの深層。DUV依存で歩留まり3割の壁
「00枚に満たないと見られる。露光装置以外でも、エッチング装置の北方華創科技集団（NAURA）や中微半導体設備（AMEC）は14nmや7nm対応の製品を開発しているとされるが、これは特定工程向けの部分的な達成に過ぎない。半導体製造は数百の工程」
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2026-03-03
米半導体規制の次章、中国DRAM・NAND狙う18nmの壁と日本の岐路
「れに専用の高度な装置が必要とされる。中国の装置メーカー、例えば北方華創科技集団(NAURA)や中微半導体設備(AMEC)は、一部のエッチング装置や成膜装置で技術力を向上させているものの、総合力では日米欧の巨大企業に遠く及ばない。特に、回路パ」
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2026-03-01
中国半導体、国産化の岐路 「大基金III」7兆円の実態と限界
「置メーカーの育成にあると見られる。上海微電子装備（SMEE）や北方華創科技集団（NAURA）などが主要な投資先候補に挙がる。米国の輸出規制により、オランダASML製の極端紫外線（EUV）露光装置や、東京エレクトロン製の先端成膜装置などの輸入」
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2026-02-27
中国AI半導体、米規制下の実態。国産7nmとNVIDIA依存の狭間
「要部分を削り取るエッチング装置や、不純物を洗い流す洗浄装置の分野では、北方華創(NAURA)や中微半導体(AMEC)などが技術力を高め、一部では国産化が進展している。しかし、これらも先端の3nmや5nmプロセスで要求される精度には達していな」
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中国の技術自立、第15次五カ年計画の全貌は。半導体国産化50%への道筋
「される計画だ。投資先の7割以上が、上海微電子装備(SMEE)や北方華創科技集団(NAURA)といった国産装置企業や、素材開発を手がける新興企業に割り振られる。これは、先端プロセス開発の遅延を許容してでも、経済安全保障の基盤となるサプライチェ」
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