ASML

「2026年9月8日、半導体の設備と需要をめぐる合意が3件、同じ日に出た。ASMLとTSMCが12インチのフォトマスクへ移る業界横断の取り組みを立ち上げ、ASMLとサムスン電子がHigh NA EUVの適用範囲を広げる合意を結び、クア」

「34年使った規格を丸ごと作り直す必要がある。 2026年9月8日、ASMLとTSMC」

「alibre、シノプシスのIC Validator、ケイデンスのPegasus、ASML傘下のブライオン、PDFソリューションズ。第5が基板と実装の設計で、アルティウム、日本の図研、ケイデンスのAllegro、シーメンス設計部門のXpedi」

「WAICOに勝ち筋はない。最先端の計算を支える急所は、EUV露光装置(オランダASML)、製造装置(東京エレクトロン、米アプライドマテリアルズ等)、広帯域メモリーHBM(韓国SKハイニックス、サムスン電子)、先端製造(台湾TSMC)と、こ」

「が押さえている。露光装置そのものはASMLが独占するが、その光源部品とレンズは日本とドイツが供給する。この構造はTSMCを支える装置と材料の依存関係」

「装置保守の前線基地の性格を帯びる。露光装置のASMLも菊陽町に保守拠点を置いた。装置の巨人たちは工場が動き始めてから来る。誘致の第」

「二重の閉ループ、そしてASMLが公表した実例。試作機では埋まらない現場データの偏りと、計算では消せない光の揺らぎまで追う。 機械の体を作る力なら中国にある。材料、精密加工」

「10万点の部品のうち、ASMLが作るのは15パーセントだけ ― 独占の実体を分解する 極端紫外線の露光装置の独占を、ASML以外の側から分解する。1メガワットが数十ワットへ落ちる損失の連鎖を計算で追い、キヤノンとニコンの現在地、中国が挑」