業界別スペック
- 主要製品
- EUV露光装置 (TWINSCAN NXEシリーズ)、高NA EUV (TWINSCAN EXE:5000/5200)、ArF液浸DUV (TWINSCAN NXT)、KrF/i-line露光装置、計測・検査システム (YieldStar/HMI)
半導体企業
⚙️ 製造装置
ASML
阿斯麦 / ASML
🗓 事実の最終確認: 関連記事の更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)
主力製品・モデル
極端紫外線 (EUV) 露光装置
上場
ASML
| 企業 | 主力製品・モデル | 評価額・時価総額 | 最新発表 / 確認日 |
|---|---|---|---|
| SMEE (上海微電子) | SSA600/20 (90nm DUV、量産)、SSB50… | 非上場 | 2026-08-06 |
| NAURA (北方華創) | エッチング装置: ENTRON (シリコン)、EXCEL … | 時価総額 約1500億元 | 2026-07-16 |
| AMEC (中微半導体) | Primo D-RIE (誘電体エッチング)、Primo … | 時価総額 約900億元 | 2026-07-16 |
| Piotech (拓荊科技) | PECVD 装置 (NMC シリーズ、誘電体堆積、Appl… | 時価総額 約400億元 | 2026-07-16 |
Postation の入口
📦 製品・商品 (12)
📦 TWINSCAN EXE:5000 製品
High NA (開口数 0.55) の EUV 露光装置。解像度 8nm。先端ロジックとメモリの量産を支える新世代機の第1号。
📦 TWINSCAN EXE:5200B 製品
📦 TWINSCAN NXE:3800E 製品
📦 TWINSCAN NXE:3600D 製品
📦 TWINSCAN NXT:2150i 製品
ArF 液浸 DUV 露光装置。重ね合わせと結像の性能を高めつつ、生産性とプロセスの簡素さを両立する最上位機。
📦 TWINSCAN NXT:1470 製品
乾式 DUV 露光装置。1 時間あたり 300 枚を超える、同社プラットフォームで最高の生産性。
📦 TWINSCAN XT:1060K 製品
ASML で最も先進的な KrF 乾式露光装置。
📦 YieldStar 製品
ウエハ上のパターン品質を高速かつ高精度に計測する光学メトロロジー。1385 / 1390 / 500 を展開する。
📦 HMI e-beam 製品
数百万の転写パターンの中から個々の欠陥を特定・解析する電子ビーム検査。eScan 1100 / eScan 600 / eP5 を展開する。
🛠️ Computational lithography サービス
チップの品質を損なう物理的・化学的な影響を最小化する計算リソグラフィ。
🛠️ Refurbished systems サービス
PAS 5500 や TWINSCAN の再生機を整備して再供給する事業。
📦 極端紫外線 露光装置 製品
🧪 技術・サービス (5)
🧪 EUVリソグラフィ 技術
波長13.5nm。スズ滴にレーザーを照射してEUV光を得るLPP光源、ZEISS製の超高精度ミラー光学系、ナノメートル級のオーバーレイ制御を1台に統合する。
🧪 高NA EUV 技術
NA 0.55 の次世代機で解像度8nmへ進む。
🧪 ArF液浸DUV (TWINSCAN NXT) 技術
🧪 計測・検査 (YieldStar/HMI) 技術
露光工程全体を掌握する。
🧰 供給網の統合力 基盤
1台は10万点を超える部品からなり重量約180トン。自社製造は約15パーセントで、供給網には5,150社超が連なる (鏡はZEISS、光源の炭酸ガスレーザーはトゥルンプ)。10万点を1台として成立させる統合力が中核。
📋 詳細情報
技術・事業
- 技術概要
- 極端紫外線を使う露光装置を商業規模で製造できる唯一の企業。1台は10万点を超える部品からなり、重量は約180トンに達する。ただし ASML 自身が作るのはおよそ15パーセントで、2024年に公表した供給網には5,150社を超える企業が連なる。鏡はドイツのツァイスが磨き、光源の炭酸ガスレーザーは同じくドイツのトゥルンプが作る。同社の中核は部品を作る力ではなく、10万点を1台として成立させる統合力にある。
- コア技術
- EUVリソグラフィ (波長13.5nm)。スズ滴にレーザーを照射してEUV光を得るLPP光源、ZEISS製の超高精度ミラー光学系、ナノメートル級のオーバーレイ制御を1台に統合する。次世代の高NA EUV (NA 0.55) では解像度8nmへ進み、ArF液浸DUV (TWINSCAN NXT) や計測・検査 (YieldStar/HMI) まで露光工程全体を掌握する。
⭐ 強み・特徴
EUVの事実上の独占供給による参入障壁。装置1台数億ドルの高付加価値に加え、据付後の保守・アップグレードで積み上がるインストールベース収益。ZEISS・Cymerを組み込んだ垂直統合サプライチェーン。
🔮 今後の展望
📊 詳細ビジネスデータ
🛍️ 商品詳細
🇯🇵 日本企業との取引・関係
上場・財務
- 本社
- オランダ
- 銘柄コード
- ASML
- 上場ステータス
- 上場済
信用・米制裁
- 銀行信用
- 健全
- 🇺🇸 米制裁
- なし
海外進出
- 資金流出
- なし
📚 信頼性メタデータ
- 信頼度
- 🅱 専門メディア
- 最終確認
- 2026-08-20 17:40:17
- 検証者
- claude+edge-review+chart-verified
出典 URL
- https://www.postation.jp/news/euv-lithography-monopoly-supply-chain-china-ssmb-japan
- https://www.postation.jp/news/asml-wafer-stage-motion-control-precision-verified
- https://www.trendforce.com/news/2025/11/10/news-asmls-magic-uncovered-tech-and-partners-behind-its-euv-edge-china-cant-replicate/
最新動向
2026年7月時点で、極端紫外線を使う露光装置を商業規模で作れる企業は世界で同社1社のみ。装置は10万点超の部品と約180トンの重量を持ち、自社製造比率はおよそ15パーセント。供給網は5,150社超 (2024年公表)。ウエハステージは磁力で支えた台を毎秒5,000回の指令で位置補正し、反力は磁石板が受け止める構造を取る。
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記事本文への実登場を機械照合し、AI 抽出分は編集チームが信頼度別に承認しています。
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2026-09-25
TSMC熊本が3ナノ量産へ、国の認定計画と取水の見通しは切り替え前のまま
「の層に使っている。3ナノで何層にEUVを使うかは公表されていない。 オランダのASMLは2024年11月の投資家説明会で、先端ロジックのEUV露光の回数を2025年に平均19〜21回、2030年に25〜30回と見込んだ。2018年の説明会」
高信頼度 100%
2026-09-19
JSR買収に1兆円超、三菱ケミカルも三井化学も借入れだけでは届かない
「極端紫外線露光でマスクを保護する膜であるペリクルを、ASMLからの許諾を受けて岩国大竹工場で作っている。ICTソリューションの2026年3月期は売上収益2,795億円、コア営業利益369億円で、利益率は13.2%」
高信頼度 100%
2026-09-10
サムスンがDRAMにHigh NA、2028年という業界初の期日
「2026年9月8日、半導体の設備と需要をめぐる合意が3件、同じ日に出た。ASMLとTSMCが12インチのフォトマスクへ移る業界横断の取り組みを立ち上げ、ASMLとサムスン電子がHigh NA EUVの適用範囲を広げる合意を結び、クア」
高信頼度 100%
2026-09-08
12インチマスクへ、High NA EUV の視野半減を2033年に解く
「34年使った規格を丸ごと作り直す必要がある。 2026年9月8日、ASMLとTSMC」
高信頼度 100%
2026-08-31
半導体設計ツール30社の一覧を資本関係で読み替えると、独立した供給者は半分に減った
「alibre、シノプシスのIC Validator、ケイデンスのPegasus、ASML傘下のブライオン、PDFソリューションズ。第5が基板と実装の設計で、アルティウム、日本の図研、ケイデンスのAllegro、シーメンス設計部門のXpedi」
高信頼度 100%
2026-08-17
米国務省が「AIは米側か中国側か」の選択を35か国に迫る、Pax SilicaとWAICOの手札を数える
「WAICOに勝ち筋はない。最先端の計算を支える急所は、EUV露光装置(オランダASML)、製造装置(東京エレクトロン、米アプライドマテリアルズ等)、広帯域メモリーHBM(韓国SKハイニックス、サムスン電子)、先端製造(台湾TSMC)と、こ」
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2026-08-07
1テラワットは世界の電気の3割にあたる ― マスク氏の半導体工場を数字で割り直す
「が押さえている。露光装置そのものはASMLが独占するが、その光源部品とレンズは日本とドイツが供給する。この構造はTSMCを支える装置と材料の依存関係」
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2026-08-01
熊本の半導体マップを1拠点も漏らさず数えたら、半分は裏方だった
「装置保守の前線基地の性格を帯びる。露光装置のASMLも菊陽町に保守拠点を置いた。装置の巨人たちは工場が動き始めてから来る。誘致の第」
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