経営陣・組織
- CEO
- 贺荣明(董事長兼総経理、2025年5月〜。創業者)
🌱 EMERGING
capability
47
/ 100
⚙️ 製造装置
🇯🇵 🟡 日本企業の直接競合 (Renesas / Sony / 三菱 / 東京エレクトロン)
🛰️ 通信・DC
📱 民生用
🏭 産業用
半導体企業
⚙️ 製造装置
SMEE (上海微電子)
上海微电子装备(集团)股份有限公司 (Shanghai Micro Electronics Equipment) / SMEE
🗓 データ最終更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)
上海微電子（SMEE）は、中国を代表する半導体企業の一つである。同社の主力事業は、半導体製造および設計であり、中国国内における半導体業界で重要な地位を占める。上海微電子は、中国政府の半導体産業育成政策を受けて設立された。主要な顧客や提携先としては、中国の大手電子機器メーカーや通信機器企業などが挙げられ、中国における半導体の需要増加に伴って成長を続けている。同社は、中国の半導体産業の発展に寄与する存在として注目されている。
Postation の入口
📦 製品・商品 (2)
📦 SSA600/20 製品
90nm、ArF 193nm、量産 2018
対象: DUV
📦 SSB500 製品
28nm、ArF immersion、量産 2024
対象: DUV
🧪 技術・サービス (3)
🧪 DUVリソグラフィ 技術
DUV 28nmが量産段階。DUV multipatterning (SAQP = Self-Aligned Quadruple Patterning) で7nm達成。
🧪 EUV試作機 技術
13.5nm光源 (LPP = Laser Produced Plasma 方式、ASML同等)。光源+光学系+ステージ+プロセス制御の4大ブロック全て国産化、光学系 (反射ミラー) は中国科学院長春光機所と共同開発。
🧪 先端パッケージング用リソグラフィ装置 技術
世界市場37% / 中国市場85%シェア。
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係
日本主要企業 (Renesas / Sony / 三菱電機) との中国市場での直接競合
⚙️ 装置メーカー
⚔ 日本企業の競合
🔬 プロセス開発・製造技術 (Fab + Hardware)
⚙️ Hardware 開発
光学レンズ系, ステージ制御
🧪 設計・材料・EDA ツール
📐 Software 開発
露光制御SW
⚙ システム基盤
上海浦東張江本社 (R&D + 組立)、北京・無錫・天津 3 拠点で部品製造。装置部品: 高精度ステージ (上海精測 PNC)、レーザー光源 (中国科学院長春光機所)、ミラー (国産化加速、ZEISS 代替)、計測装置 (KLA → 上海精測へ部分置換)。年間出荷 50-100 ユニット (DUV) + 試作 EUV 5-10 ユニット (2026)。
📋 詳細情報
技術・事業
- 技術概要
- 中国唯一の国産半導体リソグラフィ装置メーカー。DUV 28nm が量産段階、EUV 13.5nm 試作機 を 2025-09 中国工博会で初公開 (解像度 7nm 接近)。先端パッケージング用 litho 装置で世界市場 37% / 中国市場 85% シェア独占。サブシディアリ AMIES が中国国内 litho 装置市場 90% を占有 (2025-10 TrendForce)。米 Entity List 2022-12 追加で ASML/Nikon/Canon 部材調達困難、しかし国家戦略「自立内製化」の最重要装置として大基金 + 中央政府 + 上海市が連合支援、2026 EUV 量産化が中国半導体 5nm 化の鍵。
- 事業セグメント
- SMEE（上海微電子装備）は、中国の半導体製造装置メーカーであり、特にリソグラフィ（露光）装置の開発・製造を主要事業としています。①露光装置：半導体製造工程で回路パターンをウェハーに転写する露光装置（リソグラフィ装置）の開発・製造が中核事業です。特に深紫外線（DUV）露光装置に注力しており、28nmプロセス対応の液浸DUV露光装置「SSA/800-10W」を出荷したと報じられています。これは、米国の輸出規制により先端の極端紫外線（EUV）露光装置が調達できない中国において、国産化の要となる技術です。②その他半導体製造装置：露光装置以外にも、半導体製造に必要な他の装置（例えば、検査装置やパッケージング装置など）の開発も手掛けていると見られますが、露光装置が最も注目される分野です。③精密計測機器：半導体製造装置の性能を保証するための精密な計測技術や機器の開発も行っています。これは、微細な回路を正確に形成するために不可欠な要素であり、特にオーバーレイ精度やスループットの向上に貢献します。
業界別スペック
- 主要製品
- SSA600/20・SSB500
⭐ 強み・特徴
📝 現状分析
🔮 今後の展望
2026-2027: EUV 国産化で SMIC 5nm 製造可能化 (TSMC/Samsung/Intel に 3-5 年遅れだが地政学的価値最大)、DUV 量産能力 2025 → 2027 で 2 倍化目標。日本投資家含意: ASML 中国売上半減リスク (年 $5B → $2-3B)、ニコン (7731) ArF immersion 中国シェア完全喪失 -100%、キヤノン (7751) i-line/KrF 中国シェア -50%、Tokyo Electron (8035) ニュートラル (装置別)。SUMCO (3436) + 信越化学 (4063) は SMIC 経由で SMEE 装置の間接需要で +5-10%。反証: EUV 国産化遅延 → 2027 以降に持ち越し、その場合 SMIC 5nm 化遅延で中国 AI 競争力減速。
📊 詳細ビジネスデータ
🛍️ 商品詳細
⚙️ アルゴリズム・メカニズム
🏗️ システム基盤構成
💰 売上の見込み
💸 売上の出どころ
👤 経営者履歴
CEO — 贺荣明(董事長兼総経理、2025年5月〜。創業者)
🇯🇵 日本企業との取引・関係
上場・財務
- 本社
- 上海市浦東新区张江
- 創業
- 2002
- 従業員
- 約2,500人
- 上場ステータス
- 未上場
信用・米制裁
- クレジット
- none
- 銀行信用
- 健全
- 制裁適用日
- 2022-12-16
海外進出
- 資金流出
- なし
📚 信頼性メタデータ
- 信頼度
- 🅱 専門メディア
- 最終確認
- 2026-08-06 10:58:18
- 検証者
- r95-re-approve-enrich
出典 URL
- https://en.wikipedia.org/wiki/Shanghai_Micro_Electronics_Equipment
- https://www.electronicsweekly.com/news/business/smic-testing-domestic-immersion-duv-machine-2025-09/
- https://m.caixin.com/m/2022-12-16/101978580.html
- https://www.trendforce.com/news/2025/11/10/news-decoding-chinas-lithography-push-to-challenge-asml-from-sicarrier-to-alternative-euv-paths/
- https://baike.baidu.com/item/%E8%B4%BA%E8%8D%A3%E6%98%8E/64636659
最新動向
中国唯一の露光装置一貫メーカー(2002年3月7日設立、上海)。2025年5月に28nm対応ArF液浸露光装置(SSA800系)初号機の出荷を発表、2025年9月にはSMICが国産液浸DUVの検証テストを実施中と報道(Electronics Weekly)。2026年3月の上海SEMICON China(第33回)で28nm液浸DUV機を初めて近接撮影可能な形で公開展示した。中国メディア・アナリスト観測ではSSA800系の重ね合わせ精度±2.5nm、国産化率85%以上、2026〜2027年に年産100台・国産化率95%を目指すとされるが、これらの数値はSMEE公式発表では未確認。「7nmで歩留まり40%」等の報道も独立検証なく未確認。65nm機(SSA600系)は2023年に量産段階。米規制は2022年2月のUnverified List掲載を経て、2022年12月16日にBISが長江存儲・寒武紀等36社と共にEntity Listへ追加し現在も継続。人事は2025年5月から創業者の贺荣明が董事長兼総経理(1985年同済大学卒、2002年会社設立、国家光刻設備工程技術研究中心主任兼務)。上海電気系資本との再編・上場(借殻)観測が2025〜2026年に流布しているが公式発表はなく未確認。
📧 Newsletter · 無料
半導体×供給網の動きを、毎日メールで。
毎日 18 時、その日の重要ニュースに、直近7日の供給網の動き (企業DB更新・米制裁速報) を添えて1通に。一次情報からの独自分析を、日本投資家視点で「次に効く事実」だけお届けします。
確認メールを1通お送りします (ダブルオプトイン)。いつでも解除でき、プライバシーは厳守します。
🎯 この企業を直接言及した記事
記事本文への実登場を機械照合し、AI 抽出分は編集チームが信頼度別に承認しています。
高信頼度 100%
2026-07-28
10万点の部品のうち、ASMLが作るのは15パーセントだけ ― 独占の実体を分解する
「て複製するという説明は、進行している努力の一部でしかない。 装置の側では、上海微電子が国内で唯一、前工程の露光装置を量産できる企業とされる。自社開発の600系列は90ナノメートル世代で量産段階に入り、現在は28ナノメートルに対応する液」
高信頼度 100%
2026-05-18
2027 年 2nm 競争 — Rapidus・TSMC 熊本・SMIC の勝者は誰か
「ドル 2: SMEE 国産 EUV 開発の現実 中国はリスクを認識し、上海微電子裝備 (SMEE) で国産 EUV 開発を進めている。 / 段階 / 達成時期 (公式) / 業界評価 / --- / --- / ---」
高信頼度 100%
2026-03-05
米中半導体戦争、新局面へ 中国「大基金」3期で国産化加速
「その性能は現時点で28nmプロセス対応が限界とみられている。先端プロセスへの道のりは依然とし」
高信頼度 100%
2026-03-04
中国半導体、SMIC7nmの深層。DUV依存で歩留まり3割の壁
「の規制強化を受け、中国では半導体製造装置の国産化が国家的な至上命令となっている。上海微電子装備（SMEE）は国産露光装置の旗手とされ、2023年末には28nmプロセス対応の液浸DUV露光装置「SSA/800-10W」を出荷したと報じられた」
高信頼度 100%
2026-03-04
中国半導体、国産化70%目標の虚実。第14次五カ年計画の誤算
「きないのか 米国の規制を受け、中国は製造装置の国産化を急いでいる。その象徴が、上海微電子装備（SMEE）が開発を進める液浸ArF（フッ化アルゴン）露光装置だ。これは、光源とウエハーの間に純水を満たして屈折率を高め、解像度を向上させる技術で」
高信頼度 100%
2026-03-03
米半導体規制の次章、中国DRAM・NAND狙う18nmの壁と日本の岐路
「回路パターンをウエハーに転写するリソグラフィー工程は深刻な隘路となっている。上海微電子装備(SMEE)が開発を進めるArF液浸露光装置は、いまだ量産適用可能な性能に達していないとされる。また、半導体製造の品質を左右する検査・測定装置の分」
高信頼度 100%
2026-03-02
半導体国産化の虚実 中国7nm量産、SMIC支える日本の装置網
「位の研究開発と10億ドルを超える投資が必要とされる。 中国の国産装置メーカー、上海微電子装備(SMEE)が開発した最上位機種「SSA600/20」は、ArF液浸技術に対応するものの、解像度は28nmにとどまる。これはASMLが10年以上前」
高信頼度 100%
2026-03-01
中国半導体、国産化の岐路 「大基金III」7兆円の実態と限界
「や成膜、エッチングといった中核工程を担う国産装置メーカーの育成にあると見られる。上海微電子装備（SMEE）や北方華創科技集団（NAURA）などが主要な投資先候補に挙がる。米国の輸出規制により、オランダASML製の極端紫外線（EUV）露光装置」
🔗 共に語られる企業
同じ記事の中でこの企業と一緒に言及されることが多い企業・装備。数字は共に登場した記事数。
📰 関連ニュース
SMEE (上海微電子) に関する最新 6 件の記事
📌 関連トピック
📰 関連ニュース
この企業のトピックに関連する最新ニュース。
SEMICONDUCTOR · 2026-07-28
体は作れる、脳も作れる ― 足りないのは、機械が壊れる現場だった
SEMICONDUCTOR · 2026-07-28
10万点の部品のうち、ASMLが作るのは15パーセントだけ ― 独占の実体を分解する
AI · 2026-06-23
TSMCを支える見えない一国 — 露光機の周りを固める日本の素材と装置
AI · 2026-06-23
TSMCが挑む角形パネル実装「CoPoS」 ― 巨大AIチップの後工程を握る日本と台湾
SPACE · 2026-06-16
「恒星規模の文明」は実現するのか――スペースXが描く地球外経済の全設計図
SEMICONDUCTOR · 2026-05-26
SKハイニックスのHBMシェア57％ AIメモリ王座を巡る三社鼎立と供給網の死角
ENERGY · 2026-05-26
エヌビディアが迫る800ボルト転換 1.3兆ドルのAI電力インフラ争奪戦
SEMICONDUCTOR · 2026-04-27
インテル、24年Q1決算が予想超え AI需要で中国半導体株も急騰
💬 この企業へのコメント 0
まだコメントはありません
最初のコメントを投稿してみましょう！⚠️ エラーが発生しました