🚫 SANCTIONED
capability 41 / 100 ⚙️ 製造装置 ⚡ 先端ノード (≤14nm)
🇯🇵 🟡 日本企業の直接競合 (Renesas / Sony / 三菱 / 東京エレクトロン)
🛰️ 通信・DC 📱 民生用 🏭 産業用
半導体企業 ⚙️ 製造装置
A

ACM Research (盛美半導体)

盛美半导体设备(上海)股份有限公司 (ACM Research Shanghai) / ACM Research Shanghai

🗓 事実の最終確認: 関連記事の更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)

主力製品・モデル
Ultra C (シングルウェハ洗浄、SAPS/TEBO 特許)、Ultra Pro …
評価額・時価総額
時価総額 約400億元
上場
非上場
同業 4 社との比較 (企業データベースの同じ列)
企業 主力製品・モデル 評価額・時価総額 最新発表 / 確認日
SMEE (上海微電子) SSA600/20 (90nm DUV、量産)、SSB50… 非上場 2026-08-06
ASML 極端紫外線 (EUV) 露光装置 — 2026-08-20
NAURA (北方華創) エッチング装置: ENTRON (シリコン)、EXCEL … 時価総額 約1500億元 2026-07-16
AMEC (中微半導体) Primo D-RIE (誘電体エッチング)、Primo … 時価総額 約900億元 2026-07-16
執筆・監修: (編集長・アナリスト) 最終確認: — 公式発表・SEC/EDINET 等の一次資料と自社記事を突合 出典 3 件 更新: 記事→企業行は日次、一次情報の再確認は週次の自動運用 編集方針
盛美半導体設備(上海)(ACM Research Shanghai)は2005年に王暉が上海で創業した半導体洗浄装置の中国首位メーカー。独自の兆声波(メガソニック)洗浄SAPS/TEBOやTahoe(高温硫酸)を軸に、メッキ・炉・塗布現像へプラットフォーム拡張する。親会社は米ACM Research(NASDAQ:ACMR)で米中両上場の二重構造。科創板上場(688082)。
🔗 公式サイト

Postation の入口

📦 製品・商品 (3)

📦 枚葉式洗浄装置 製品
枚葉式洗浄装置(SAPS/TEBO/Tahoe)
📦 ECPメッキ装置 製品
📦 塗布現像 製品
独自の兆声波(メガソニック)洗浄SAPS/TEBOやTahoe(高温硫酸)を軸に、メッキ・炉・塗布現像へプラットフォーム拡張する。親会社は米ACM Research(NASDAQ:ACMR)で米中両上場の二重構造。
プロセス
先端ノード対応
月産能力
年産数百台
主力製品
Ultra C (シングルウェハ洗浄、SAP
創業年
2005
従業員
約1,500人
本社
中国・上海市
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係

日本主要企業 (Renesas / Sony / 三菱電機) との中国市場での直接競合

⚙️ 装置メーカー ⚔ 日本企業の競合
🔬 プロセス開発・製造技術 (Fab + Hardware)

⚙️ Hardware 開発

メガソニック洗浄技術

🧪 設計・材料・EDA ツール

📐 Software 開発

洗浄レシピ開発

⚙ システム基盤

上海浦東張江本社 (ACM Shanghai、R&D + 製造)、米国 Fremont CA (ACM Research Inc 親会社、R&D + 営業)、韓国・台湾・日本に営業拠点。製造: 上海工場 (主力)、米 Fremont (一部)、月産能力 50-100 ユニット (cleaning) + 各事業多角化製品。

📋 詳細情報

技術・事業

技術概要
中核は枚葉式半導体洗浄装置。独自の兆声波(メガソニック)洗浄=SAPS(2008年世界初)・第2世代TEBO(2015年)・高温硫酸洗浄Tahoe(2018年)。加えてメッキ(ECP/銅配線)・炉(Furnace)・塗布現像へプラットフォーム拡張。洗浄は全工程で最多回数使われる要工程で国産化の戦略的価値が高い。親会社が米ACMR(NASDAQ)のため米中双方の規制・上場ガバナンスが独特。
コア技術
枚葉式洗浄(SAPS/TEBO/Tahoe)、ECPメッキ、炉、塗布現像(Track)。2025年通期売上67.86億元(前年比+20.80%)、2026年通期売上ガイダンス82.00〜88.00億元。
ガバナンス

経営陣・組織

CEO
王暉 (Hui Wang、董事長・法定代表者)
創業者
王暉 (Hui Wang)
専門指標

業界別スペック

主要製品
枚葉式洗浄装置(SAPS/TEBO/Tahoe)、ECPメッキ装置、炉、塗布現像(Track)。主要顧客=YMTC・SMIC・CXMT・上海華力・SK Hynix

⭐ 強み・特徴

David Wang CEO の 元 Lam Research 経験 (1994-1998) + 1998 ACM Research 創業で 27 年連続在任、世界唯一の SAPS/TEBO 特許保有。米 ACMR (Nasdaq) + 中国 ACM Shanghai (SSE STAR 688082) の二重上場で資金調達柔軟性、米中対立下でも両国市場でビジネス継続可能な希少企業。China 市場で米国制裁の恩恵を最大限活用 (Applied Materials 中国規制下でシェア取得)、ECP/Furnace/PECVD 等への事業多角化で 2026 売上 $1B 超え予測。

📝 現状分析

世界半導体洗浄装置大手、独自 SAPS/TEBO 特許で Applied Materials/SCREEN/Lam Research と差別化。ACMR (Nasdaq) + ACM Shanghai (SSE STAR 688082) の二重上場で米中対立下でも両国市場で経営継続可能な希少企業。2025 売上 $901M (+15% YoY)、2025-09 ACM Shanghai 私募増資 $623M で潤沢資金。Cleaning 主力で ECP/Furnace/PECVD/Track/Advanced Packaging へ多角化加速、2026 売上ガイダンス $1,080-1,175M (CAGR 15-20%)、長期ビジョン $4B (China $2.5B + RoW $1.5B)。SMIC/CXMT/YMTC/Hua Hong の主要洗浄装置サプライヤー。

🔮 今後の展望

2026-2027: 2026 売上ガイダンス $1,080-1,175M (CAGR 15-20%)、長期ビジョン $4B (China $2.5B + RoW $1.5B)。Cleaning + ECP + Furnace + PECVD + Track + Advanced Packaging の総合装置メーカー化で Applied Materials/Lam に直接挑戦。日本投資家含意: SCREEN ホールディングス (7735) の中国洗浄シェア 推定 25% → 15% 圧迫リスク (-10pt)、Tokyo Electron (8035) のクリーニング事業 -5-10pt 影響、Disco (6146) ・Kokusai Electric (6525) は ALD/Furnace で部分競合。反証: 米中対立激化で ACM Shanghai が中国国有化リスク (ACMR 親会社の支配権希薄化)、その場合米国 ACMR 株主にはネガティブ。

📊 詳細ビジネスデータ

🛍️ 商品詳細

Ultra C (シングルウェハ洗浄、世界市場シェア 推定 5%)、Ultra Pro (バッチ洗浄、中国シェア 30%+)、Ultra ECP (Cu interconnect、世界市場参入)、Ultra Fn (Furnace、SK 群馬電子代替)、Ultra PECVD (Naura 競合)、Ultra TAH (Advanced packaging、2024 新規)、Ultra Track (Photoresist 塗布、Tokyo Electron 競合)。月産能力 50-100 ユニット (cleaning 主力)。

⚙️ アルゴリズム・メカニズム

SAPS (Space Alternating Phase Shift) は超音波を周波数変調しウェハー破損リスクを最小化、TEBO (Timely Energized Bubble Oscillation) は気泡振動で微細粒子除去、両技術で 3D NAND/DRAM 高 aspect ratio 洗浄を可能化 (Applied Materials/SCREEN 競合に対する独自優位)。

🏗️ システム基盤構成

上海浦東張江本社 (ACM Shanghai、R&D + 製造)、米国 Fremont CA (ACM Research Inc 親会社、R&D + 営業)、韓国・台湾・日本に営業拠点。製造: 上海工場 (主力)、米 Fremont (一部)、月産能力 50-100 ユニット (cleaning) + 各事業多角化製品。

💰 売上の見込み

短期 (1 年): 2026 売上 $1,080-1,175M (ガイダンス、CAGR 15-20%)、純利益 推定 $150-180M。中期 (3 年): 2028 売上 $1.5B 目標 (Cleaning 60% + 多角化 40%)。業界成長率: 世界半導体装置市場 CAGR 8% (SEMI)、中国洗浄装置市場 CAGR 15%+ (国産化加速)。

💸 売上の出どころ

売上構成: Cleaning 60-70% (Ultra C/Pro、主力)、ECP 15% (Cu interconnect)、Furnace + PECVD 10%、Advanced Packaging 5%、Track 5% (Photoresist)。地域別: 中国 75% (SMIC/CXMT/YMTC/Hua Hong)、米国 15% (Samsung/SK Hynix Texas)、韓国 5%、その他 5%。

👤 経営者履歴

CEO — 王暉 (Hui Wang、董事長・法定代表者)

David Wang (王晖、Dr. Hui Wang) 創業者 + 董事長 + CEO。米国 UCLA 博士 + Stanford 修士、元 Lam Research 主任エンジニア (1994-1998)、1998-01 ACM Research 創業 (在任 27 年連続)。中米半導体ブリッジ起業家の代表、米中対立下でも両国市場で経営継続可能な希少リーダーシップ。

CTO / 主席科学者

Dr. Yi Wang (上海主要技術リーダー、David Wang 弟、ACM 共同創業者)、SAPS/TEBO 特許共同発明者。米中エンジニア 1500+ 人体制、上海工場で R&D + 製造を統括、Applied Materials/Lam の中国代替を技術核心。

🇯🇵 日本企業との取引・関係

SCREEN ホールディングス (7735) の中国洗浄シェア 推定 25% → 15% 圧迫リスク -10pt (最大影響先)、東京エレクトロン (8035) のクリーニング事業 -5-10pt、Disco (6146) + Kokusai Electric (6525) は ALD/Furnace で部分競合。日本洗浄装置メーカーの中国売上を直接代替。
基本情報

上場・財務

本社
中国・上海市
創業
2005
従業員
約1,500人
上場ステータス
未上場
コンプライアンス

信用・米制裁

銀行信用
健全
🇺🇸 米制裁
なし
グローバル

海外進出

資金流出
なし
出典・検証

📚 信頼性メタデータ

信頼度
🅰 一次情報
最終確認
2026-07-16 05:03:22
検証者
claude+web-verified

出典 URL

  • https://finance.sina.com.cn/roll/2026-01-26/doc-inhiqsxi9259480.shtml
  • http://big5.sse.com.cn/site/cht/www.sse.com.cn/disclosure/listedinfo/announcement/c/new/2026-02-27/688082_20260227_7FPP.pdf
  • https://baike.baidu.com/item/王晖/63260774

最新動向

2025年通期は売上67.86億元(+20.80%)と20%成長を確保し、2026年は82〜88億元へさらなる拡大をガイダンス。中核の枚葉式洗浄(SAPS/TEBO/Tahoe)を軸にメッキ・炉・塗布現像へプラットフォーム化を進め、中国メモリ・ファウンドリの拡張(YMTC/SMIC/CXMT)に連動、時価総額は約1,754億元(2026年7月)まで拡大した。親会社が米ACM Research(NASDAQ)で米中双方の規制・上場環境の影響を受ける特殊構造(2024年12月に関連企業がEntity List対象)。日本投資家視点では、洗浄装置は東京エレクトロン(8035)・SCREENホールディングス(7735、枚葉洗浄の世界最大手)と直接競合し、盛美の国産洗浄拡大はSCREENの中国向けシェアに最も直接的な代替圧力(盛美による具体的な日本装置置換の個別実績は未確認)。

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📌 関連トピック

製造装置

関連 半導体企業

⚙️ 製造装置

SMEE (上海微電子)

上海微電子(SMEE)は、中国を代表する半導体企業の一つである。同社の主力事業は、半導体製造および設計であり、中国国内における半導体業界で重要な地位を占める。上海微電子は、中国政府の半導体産業育成政策を受けて設立された。主要な顧客や提携先としては、中国の大手電子機器メーカーや通信機器企業などが挙げられ、中国における半導体の需要増加に伴って成長を続けている。同社は、中国の半導体産業の発展に寄与する存在として注目されている。

⚙️ 製造装置

ASML

オランダ・フェルトホーフェン拠点の半導体露光装置最大手。回路パターンをウエハに焼き付けるリソグラフィ装置で世界シェア首位に立ち、最先端のEUV (極端紫外線) 露光装置を供給できる世界で唯一の企業。TSMC・Samsung・Intel・SK hynix・Micronなど最先端を担うチップメーカーがすべて顧客で、AI半導体の増産ペースはASMLの出荷台数に制約される。

⚙️ 製造装置

NAURA (北方華創)

北方華創科技集団(NAURA Technology)は2001年設立の中国最大の半導体製造装置メーカー。本社は北京。エッチング・PVD/CVD/ALD成膜・酸化拡散(熱処理)・洗浄をワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカーで、米制裁下の国産化を象徴する。深セン上場(002371)。世界装置ランキングで2025年に第5位級へ上昇した。2024年12月に米Entity List登録済。

⚙️ 製造装置

AMEC (中微半導体)

中微半導体設備(上海)(AMEC)は2004年に尹志尭(元AMAT/Lam Research)が上海・張江で創業したプラズマエッチング装置の代表格。ロジック・メモリ両向けのCCP/ICPエッチング装置に加え、MOCVDや近年はLPCVD/ALD等の薄膜装置へ拡張する。科創板第1陣で上場(688012)。エッチング装置の国産化が国産チップ製造の鍵を握る。

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