経営陣・組織
- CEO
- 王暉 (Hui Wang、董事長・法定代表者)
- 創業者
- 王暉 (Hui Wang)
盛美半导体设备(上海)股份有限公司 (ACM Research Shanghai) / ACM Research Shanghai
日本主要企業 (Renesas / Sony / 三菱電機) との中国市場での直接競合
⚙️ Hardware 開発
メガソニック洗浄技術
📐 Software 開発
洗浄レシピ開発
【Postation Lab 独自検証】**SAPS (Space Alternating Phase Shift)** は超音波を周波数変調しウェハー破損リスクを最小化、**TEBO (Timely Energized Bubble Oscillation)** は気泡振動で微細粒子除去、両技術で 3D NAND/DRAM 高 aspect ratio 洗浄を可能化 (Applied Materials/SCREEN 競合に対する独自優位)。
【Postation Lab 独自検証】上海浦東張江本社 (ACM Shanghai、R&D + 製造)、米国 Fremont CA (ACM Research Inc 親会社、R&D + 営業)、韓国・台湾・日本に営業拠点。製造: 上海工場 (主力)、米 Fremont (一部)、月産能力 50-100 ユニット (cleaning) + 各事業多角化製品。
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