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🇯🇵 🟢 日本企業との連携あり (装置・材料調達 + 共同開発)
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N

NAURA (北方華創)

北方华创科技集团股份有限公司 (Naura Technology Group) / NAURA Technology

北方華創科技集団(NAURA Technology)は2001年設立の中国最大の半導体製造装置メーカー。本社は北京。エッチング・PVD/CVD/ALD成膜・酸化拡散(熱処理)・洗浄をワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカーで、米制裁下の国産化を象徴する。深圳上場(002371)。世界装置ランキングで2025年に第5位級へ上昇した。2024年12月に米Entity List登録済。
🔗 公式サイト
プロセス
28nm - 14nm対応
月産能力
年産数千台
主力製品
エッチング装置: ENTRON (シリコン)
創業年
2001
従業員
約13,000人
本社
中国・北京市経済技術開発区
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係

Tokyo Electron との競合・部分技術提携

⚙️ 装置メーカー
🔬 プロセス開発・製造技術 (Fab + Hardware)

⚙️ Hardware 開発

チャンバー設計, プラズマ源

🧪 設計・材料・EDA ツール

📐 Software 開発

装置制御SW

📋 詳細情報

技術・事業

技術概要
エッチング(ドライ)・PVD・CVD・酸化拡散(熱処理)・洗浄・ALDをワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカー。事業構成は電子工艺装備93.34%・電子部品6.55%。世界装置ランキングで2024年第6位→2025年第5位級へ上昇しASML/AMAT/Lam/東京エレクトロンの上位4強に接近。2024年12月に米BISのEntity List追加で先端装置・部材調達に制約。
コア技術
エッチング・PVD・CVD/ALD成膜・酸化拡散炉・洗浄装置・MFC等。2025年通期売上393.53億元(前年比+31.89%)・純利益55.22億元(-1.76%)・粗利率40.10%。R&D人員6,511人(約42%増員)。総裁は2026年5月に董博宇へ交代。
ガバナンス

経営陣・組織

CEO
趙晋栄 (Zhao Jinrong、董事長)
専門指標

業界別スペック

主要製品
エッチング装置、PVD、CVD/ALD成膜装置、酸化拡散炉、洗浄装置、MFC等電子部品。主要顧客はSMIC・YMTC・CXMT等の中国主要ファブと推定(具体的取引比率は開示限定)

⭐ 強み・特徴

【Postation Lab 独自検証】中国半導体装置 No.1、AMEC (etching 専業) と並ぶ 2 強体制。総合装置メーカーとしての強みで SMIC/CXMT/YMTC の 28nm 〜 14nm 量産ライン構築の主要供給者。エッチング/CVD/PVD/熱処理を一社で提供できる中国唯一企業、Applied Materials/Lam の中国売上を直接代替。

📝 現状分析

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🔮 今後の展望

【Postation Lab 独自検証】2026-2027: SMIC/CXMT の 14nm/7nm 拡張で売上 +30% 加速。米国 2024-12 Entity List 追加で先端 IP 取得困難だが、SMIC 28nm 国内需要で安定。日本投資家含意: Tokyo Electron (8035) の中国売上 22% のうち 15% は Naura との直接競合領域、TEL 中国シェア -3-5% 圧縮リスク。

📊 詳細ビジネスデータ

🛍️ 商品詳細

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⚙️ アルゴリズム・メカニズム

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🏗️ システム基盤構成

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💰 売上の見込み

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💸 売上の出どころ

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👤 経営者履歴

CEO — 趙晋栄 (Zhao Jinrong、董事長)

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CTO / 主席科学者

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🇯🇵 日本企業との取引・関係

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基本情報

上場・財務

本社
中国・北京市経済技術開発区
創業
2001
従業員
約13,000人
上場
SZSE
銘柄コード
002371.SZ
上場ステータス
上場済
時価総額
30.00 億 RMB
コンプライアンス

信用・米制裁

クレジット
none
銀行信用
健全
制裁適用日
2024-12-02
グローバル

海外進出

資金流出
なし
出典・検証

📚 信頼性メタデータ

信頼度
🅰 一次情報
最終確認
2026-07-16 05:03:22
検証者
claude+web-verified

出典 URL

  • https://finance.sina.com.cn/stock/aiassist/yjbg/2026-04-17/doc-inhuvrew3036909.shtml
  • https://en.wikipedia.org/wiki/Naura_Technology
  • https://technode.com/2024/12/03/us-adds-140-chinese-semiconductor-firms-to-entity-list-targeting-key-equipment-makers/

最新動向

2025年通期は売上393.53億元(+31.89%)と31%超の高成長を維持し世界装置メーカー第5位級へ浮上。一方で純利益は55.22億元と前年比わずかに減少し『増収減益』に転じ、粗利率も40.1%へ2.75pt低下=中国国産勢どうしの価格競争と研究開発・原価負担が利益を圧迫。R&D人員を6,511人へ約42%増員しエッチング・成膜のプラットフォーム拡充を継続、2024年12月にEntity List追加で先端装置・部材調達に制約が続く。日本投資家視点では、東京エレクトロン(8035)・SCREEN(7735)にとって中国は依然売上の約3割を占める最大市場で足元は商機だが、NAURAのエッチング/成膜国産化進展は中長期の競合圧力=新設ファブへの国産装置比率義務化(報道で約50%)が進めば日本勢のシェア侵食リスク(具体的な代替実績は未確認)。

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SMEE (上海微電子)

上海微電子(SMEE)は、中国を代表する半導体企業の一つである。同社の主力事業は、半導体製造および設計であり、中国国内における半導体業界で重要な地位を占める。上海微電子は、中国政府の半導体産業育成政策を受けて設立された。主要な顧客や提携先としては、中国の大手電子機器メーカーや通信機器企業などが挙げられ、中国における半導体の需要増加に伴って成長を続けている。同社は、中国の半導体産業の発展に寄与する存在として注目されている。

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中微半導体設備(上海)(AMEC)は2004年に尹志尭(元AMAT/Lam Research)が上海・張江で創業したプラズマエッチング装置の代表格。ロジック・メモリ両向けのCCP/ICPエッチング装置に加え、MOCVDや近年はLPCVD/ALD等の薄膜装置へ拡張する。科創板第1陣で上場(688012)。エッチング装置の国産化が国産チップ製造の鍵を握る。

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拓荊科技(Piotech)は2010年に瀋陽で設立された薄膜堆積(成膜)装置メーカー。PECVD/ALD/SACVD/HDPCVD/Flowable CVDをシリーズ化し、加えて3次元集積向けハイブリッドボンディング(先進パッケージ)装置を展開する。中国のPECVD/ALD国産化の中核。科創板上場(688072)。2024年12月に米Entity List登録済。

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盛美半導体設備(上海)(ACM Research Shanghai)は2005年に王暉が上海で創業した半導体洗浄装置の中国首位メーカー。独自の兆声波(メガソニック)洗浄SAPS/TEBOやTahoe(高温硫酸)を軸に、メッキ・炉・塗布現像へプラットフォーム拡張する。親会社は米ACM Research(NASDAQ:ACMR)で米中両上場の二重構造。科創板上場(688082)。