🚫 SANCTIONED
capability 30 / 100 🧪 材料 ⚡ 先端ノード (≤14nm)
🇯🇵 🟢 日本企業との連携あり (装置・材料調達 + 共同開発)
🛰️ 通信・DC 📱 民生用 🏭 産業用 🚗 車載
半導体企業 🧪 材料
M

三菱ケミカル

三菱ケミカル / Mitsubishi Chemical

🗓 データ最終更新: 出典: 当サイト企業データベース (一次資料・自社記事の解剖に基づく)

三菱ケミカルは三菱ケミカルグループ株式会社(証券コード4188)が100%保有する完全子会社の総合化学メーカーで、2017年4月設立(創業1933年8月)、資本金532億2,900万円、単独従業員12,579人(2026年3月31日現在)。本社は東京都千代田区丸の内。半導体分野では超高純度・低金属・低パーティクルを管理したプロセス材料と消耗品を、リソグラフィ、成膜・エッチング、CMP・洗浄、パッケージングまで工程横断で供給する。九州では九州事業所として福岡地区(北九州市八幡西区)と熊本地区(宇土市)の2拠点を持つ。

📦 製品・商品 (8)

📦 EL塩酸 製品
EL塩酸でメタル不純物10ppt以下という超高純度管理を掲げ

出典: m-chemical.co.jp/company/profile/index.html

📦 MC1 製品
MC1や酸性・アルカリ性のCMP後洗浄剤を揃える

出典: m-chemical.co.jp/company/profile/index.html

📦 CMP後洗浄剤 製品
酸性・アルカリ性タイプのCMP後洗浄剤。

出典: m-chemical.co.jp/company/profile/index.html

📦 アクアセーブ 製品
📦 アクアパス 製品
📦 リソマックス 製品
📦 合成石英粉 製品
半導体製造用ルツボ・光ファイバー向け高純度原料。九州事業所福岡地区の生産品目。

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📦 GaN基板 製品
GaN基板を手がけ、FEOLからBEOL

出典: m-chemical.co.jp/company/profile/index.html

🧪 技術・サービス (6)

🧪 EL塩酸 技術
ウエハ洗浄用の高純度塩酸。メタル不純物10ppt以下の品質レベルを掲げる。
🧪 MC1 技術
RCA洗浄の代替となる高機能洗浄剤。
🧪 CMP後洗浄剤 技術
CMP工程後の洗浄剤。酸性・アルカリ性の両タイプを提供。
🧪 リソマックス 技術
フォトレジスト用感光性ポリマー。
🧪 GaN基板(SCAAT) 技術
SCAAT技術を採用した窒化ガリウム基板。パワーデバイス向け。
🧪 合成石英粉 技術
半導体製造用ルツボや光ファイバー向けの高純度合成石英粉。
創業年
2017
従業員
単独12,579人・連結36,223
本社
東京都千代田区丸の内1-1-1 パレ
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係

日本装置・材料の主要顧客 (Tokyo Electron / SUMCO / Nikon / 信越化学 等から調達)

📋 詳細情報

技術・事業

技術概要
半導体プロセス薬品では、ウエハ洗浄用のEL塩酸でメタル不純物10ppt以下という超高純度管理を掲げ、RCA洗浄代替の高機能洗浄剤MC1や酸性・アルカリ性のCMP後洗浄剤を揃える。リソグラフィ関連では電子線リソグラフィー用帯電防止剤のアクアセーブ、水溶性導電性ポリマーのアクアパス、フォトレジスト用感光性ポリマーのリソマックスを展開する。素材面では半導体製造用ルツボ向けの合成石英粉や、SCAAT技術によるGaN基板を手がけ、FEOLからBEOL、パッケージングまで工程横断で材料を供給する。受託サービスとしてウェハ再生、精密洗浄、超純水・排水処理設備も提供し、九州事業所は福岡地区(北九州市)と熊本地区(宇土市)の2拠点体制である。
ガバナンス

経営陣・組織

親会社
三菱ケミカルグループ
専門指標

業界別スペック

主要製品
半導体洗浄用薬品(EL塩酸、MC1、CMP後洗浄剤)、リソグラフィ材料(アクアセーブ、リソマックス)、合成石英粉、GaN基板

⭐ 強み・特徴

洗浄用プロセス薬品からフォトレジスト用ポリマー、合成石英粉、GaN基板まで、半導体前工程から後工程までの材料を1社で幅広く揃える総合力が強み。三菱ケミカルグループの研究開発基盤と国内製造拠点網を背景に、超高純度品質管理(メタル不純物10ppt以下の洗浄用薬品など)を打ち出している。

📊 詳細ビジネスデータ

🇯🇵 日本企業との取引・関係

国内に富山、東海、茨城、岡山、九州などの事業所を展開。九州事業所は福岡地区(北九州市八幡西区黒崎城石1-1)と熊本地区(熊本県宇土市築籠町221)の2拠点で、福岡地区(1935年操業開始)ではカラーレジスト、イオン交換樹脂(超純水製造向け)、半導体製造用ルツボ向け合成石英粉などを生産する。
基本情報

上場・財務

本社
東京都千代田区丸の内1-1-1 パレスビル(公式会社概要で確認)。九州の拠点は福岡地区=北九州市、熊本地区=宇土市(公式拠点一覧で確認)
創業
2017
従業員
単独12,579人・連結36,223名(2026年3月31日現在)
上場ステータス
未上場
コンプライアンス

信用・米制裁

クレジット
none
銀行信用
健全
🇺🇸 米制裁
なし
グローバル

海外進出

資金流出
なし
出典・検証

📚 信頼性メタデータ

信頼度
🅱 専門メディア
最終確認
2026-08-02 00:00:00
検証者
chip-jp-curated30-enrich

出典 URL

  • https://www.kumamoto-investment.jp/kiji003166/3_166_758_up_p2iqeqqa.pdf
  • https://www.kumamoto-investment.jp/kiji003166/index.html
  • https://www.m-chemical.co.jp/company/profile/index.html
  • https://www.m-chemical.co.jp/products/field/electro/semiconmat/index.html
  • https://www.mcgc.com/group/outline/mcc/location/plant.html
  • https://www.mcgc.com/group/outline/mcc/location/plant03_outline.html

最新動向

親会社の三菱ケミカルグループは2026年7月31日に2027年3月期第1四半期決算(IFRS・連結)を発表し、同日付で2027年3月期第2四半期(中間期)の連結業績予想の修正も開示した。半導体材料事業に固有の2026年上期の新規発表は公式サイトで確認できなかった。日本投資家視点では、三菱ケミカルグループ(4188)の中で半導体・エレクトロニクス関連材料は電子材料需要の回復度合いを測る観測点となる。

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