⭐ 強み・特徴
EUVより低コスト・低消費電力をうたうNIL。国内4社連合での開発体制
🚫 SANCTIONED
capability
34
/ 100
⚙️ 製造装置
⚡ 先端ノード (≤14nm)
🇯🇵 🟡 日本企業の直接競合 (Renesas / Sony / 三菱 / 東京エレクトロン)
📱 民生用
🇯🇵 日本半導体業界・研究機関との関係
日本主要企業 (Renesas / Sony / 三菱電機) との中国市場での直接競合
⚙️ 装置メーカー
⚔ 日本企業の競合
📋 詳細情報
技術・事業
- 技術概要
- 成熟プロセス向けのi線・KrF露光装置に強く、EUVに依らない微細化手段としてナノインプリントリソグラフィ (NIL) を約20年かけて開発してきた。キオクシア (量産適用)・大日本印刷 (テンプレート)・富士フイルム (レジスト) と分業し、NAND型フラッシュメモリの配線工程への量産適用を目指す。線幅25nmの配線パターンで電気試験の歩留まり100%を得たと報じられている。
上場・財務
- 本社
- 東京都
- 創業
- 1937
- 上場
- TSE
- 銘柄コード
- 7751
- 上場ステータス
- 未上場
信用・米制裁
- クレジット
- none
- 銀行信用
- 健全
- 🇺🇸 米制裁
- なし
海外進出
- 資金流出
- なし
📚 信頼性メタデータ
- 信頼度
- 🅱 専門メディア
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