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主力製品・モデル
i線・KrF露光装置、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) 装置
上場
TSE 7751
同業 4 社との比較 (企業データベースの同じ列)
企業 主力製品・モデル 評価額・時価総額 最新発表 / 確認日
SMEE (上海微電子) SSA600/20 (90nm DUV、量産)、SSB50… 非上場 2026-08-06
ASML 極端紫外線 (EUV) 露光装置 — 2026-08-20
NAURA (北方華創) エッチング装置: ENTRON (シリコン)、EXCEL … 時価総額 約1500億元 2026-07-16
AMEC (中微半導体) Primo D-RIE (誘電体エッチング)、Primo … 時価総額 約900億元 2026-07-16
執筆・監修: (編集長・アナリスト) 更新: 記事→企業行は日次、一次情報の再確認は週次の自動運用 編集方針
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📋 詳細情報

技術・事業

技術概要
成熟プロセス向けのi線・KrF露光装置に強く、EUVに依らない微細化手段としてナノインプリントリソグラフィ (NIL) を約20年かけて開発してきた。キオクシア (量産適用)・大日本印刷 (テンプレート)・富士フイルム (レジスト) と分業し、NAND型フラッシュメモリの配線工程への量産適用を目指す。線幅25nmの配線パターンで電気試験の歩留まり100%を得たと報じられている。

⭐ 強み・特徴

EUVより低コスト・低消費電力をうたうNIL。国内4社連合での開発体制
基本情報

上場・財務

本社
東京都
創業
1937
上場
TSE
銘柄コード
7751
上場ステータス
上場済
コンプライアンス

信用・米制裁

銀行信用
健全
🇺🇸 米制裁
なし
グローバル

海外進出

資金流出
なし
出典・検証

📚 信頼性メタデータ

信頼度
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🎯 この企業を直接言及した記事

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高信頼度 100% 2026-10-04
ソニーや任天堂など日本のテック上位10社、研究開発費の合計でも米メタに及ばず

「発費が多い10社は次のとおりだ。単位は兆円で、多くは2026年3月期の数値だ (キヤノンとルネサスエレクトロニクスは2025年12月期)。 / 社名 / 研究開発費 / 設備投資 / 合計 / 株主還元 / --- / ---: / --」

高信頼度 100% 2026-09-24
東京エレクトロンなど半導体製造装置・材料の8社、TSMCを主要な顧客として開示

「布は東京エレクトロンとSCREENホールディングス(以下SCREEN)だ。露光はキヤノンとニコン、エッチングは東京エレクトロンと日立ハイテク、洗浄はSCREENと東京エレクトロン、平坦化は荏原製作所が担う。ウエハー検査は東京精密と東京エレク」

高信頼度 100% 2026-09-17
富士通2nm CPU、演算部はTSMC製 ラピダス製は1.4nmから

「ケージに載せて富岳NEXTなどに使う。経産省の2026年7月の資料も、NEDOがキヤノン、IBM、富士通の最先端の半導体の設計事業を採択し、ラピダスの製造技術を使うことを想定していると記した。 !富士通のCPUとラピダスの工程: 回」

高信頼度 100% 2026-08-01
熊本の半導体マップを1拠点も漏らさず数えたら、半分は裏方だった

「大分工場、ワイエイシイメカトロニクスWP事業部、カンセツ大分事業所、大分キヤノン。宮崎県はラピスセミコンダクタ宮崎工場、旭化成、SUMCO TECHXIV宮崎工場。鹿児島県はソニーセミコンダクタマニュファクチャリング鹿児島テクノロジ」

高信頼度 100% 2026-07-29
系統への接続待ちが最長12年 ― AI基盤の7層を、調達の待ち時間で並べ直す

「導体の製造装置の細分には、東京エレクトロン、スクリーン、アドバンテスト、ニコン、キヤノン、アルバック、ウシオ電機、レーザーテック、東京精密系の後工程装置、ディスコ、ホヤが並ぶ。設計から製造まで自社で行う事業者にはルネサス。受動部品には村田製」

高信頼度 100% 2026-07-28
10万点の部品のうち、ASMLが作るのは15パーセントだけ ― 独占の実体を分解する

「最終的に何ワットの光になるのかを、変換効率と反射率から計算で追う。次に「ニコンもキヤノンも諦めた」という通説を、両社の現在の製品と計画に当たって検証する。そのうえで、中国が本当に賭けているのが装置の模倣ではなく光源そのものの作り替えであるこ」

高信頼度 100% 2026-06-23
TSMCが挑む角形パネル実装「CoPoS」 ― 巨大AIチップの後工程を握る日本と台湾

「このため装置は、反りを抑える、あるいは反ったまま正しく加工することに注力する。キヤノンのパネル露光装置FPA-8000iWは、最大10mmの反りを許容しつつ、515×510mmのパネルを52×68mmの広い露光フィールドで、1.0µmの解」

高信頼度 100% 2026-05-26
AI半導体「3D積層」の大潮流:ムーアの法則終焉の裏事情と日本の裏の覇権

「資の回収が遅れるケースが多発している。 日本企業の優位性: キヤノンやニコンの最先端アライメント計測技術、および日本の化学メーカーが供給するクリーンルーム用超純水洗剤や静電気排除材料が、この極限環境の歩留まり」

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関連 半導体企業

⚙️ 製造装置

SMEE (上海微電子)

上海微電子(SMEE)は、中国を代表する半導体企業の一つである。同社の主力事業は、半導体製造および設計であり、中国国内における半導体業界で重要な地位を占める。上海微電子は、中国政府の半導体産業育成政策を受けて設立された。主要な顧客や提携先としては、中国の大手電子機器メーカーや通信機器企業などが挙げられ、中国における半導体の需要増加に伴って成長を続けている。同社は、中国の半導体産業の発展に寄与する存在として注目されている。

⚙️ 製造装置

ASML

オランダ・フェルトホーフェン拠点の半導体露光装置最大手。回路パターンをウエハに焼き付けるリソグラフィ装置で世界シェア首位に立ち、最先端のEUV (極端紫外線) 露光装置を供給できる世界で唯一の企業。TSMC・Samsung・Intel・SK hynix・Micronなど最先端を担うチップメーカーがすべて顧客で、AI半導体の増産ペースはASMLの出荷台数に制約される。

⚙️ 製造装置

NAURA (北方華創)

北方華創科技集団(NAURA Technology)は2001年設立の中国最大の半導体製造装置メーカー。本社は北京。エッチング・PVD/CVD/ALD成膜・酸化拡散(熱処理)・洗浄をワンストップ提供する中国唯一のプラットフォーム型装置メーカーで、米制裁下の国産化を象徴する。深セン上場(002371)。世界装置ランキングで2025年に第5位級へ上昇した。2024年12月に米Entity List登録済。

⚙️ 製造装置

AMEC (中微半導体)

中微半導体設備(上海)(AMEC)は2004年に尹志尭(元AMAT/Lam Research)が上海・張江で創業したプラズマエッチング装置の代表格。ロジック・メモリ両向けのCCP/ICPエッチング装置に加え、MOCVDや近年はLPCVD/ALD等の薄膜装置へ拡張する。科創板第1陣で上場(688012)。エッチング装置の国産化が国産チップ製造の鍵を握る。

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